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        PECVD等離子體系統 當前位置:網站首頁 > 產品展示

    離子濺射鍍膜儀

    發布時間:2017-11-16  瀏覽次數:3421

    NBD-LJ10專為掃描電鏡制作樣品而設計,具有結構簡單、使用方便等特點。它不需要很 高的真空度就可以對掃描電鏡樣品進行離子濺射,因此它可以作為掃描電鏡樣品鍍膜的基本設備。

    主要特點

    1.采用4C靜音真空泵,各方面降噪,提升實驗感受;

    2.標配樣品室真空表和濺射電流表,實時顯示和監控儀器狀態;

    3.邊緣橡膠密封圈,長期使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現象。

    4.配置濺射電流控制器和微型真空氣閥。結合自動控制電路,輕松控制真空室壓強、電離電流,并可任意選擇所需電離氣體,以獲得很好的鍍膜效果;

    5.標配Φ58mm x 0.12mm 大尺寸純金靶,濺射范圍更大;


    技術參數

    1、真空腔體:Φ125(113)*126mm  ;

    2、試樣臺尺寸:Φ40nn;

    3、樣品臺可調高度:65mm;     

    4、金靶尺寸:Φ58*0.12mm;

    5、真空檢測:皮氏真空計;

    6、真空保護:20Pa配有微量充氣閥調節工作真空;

    7、工作室工作媒介氣體:空氣或氬氣,配有氬氣專用進氣口和微量充氣調節 ;

    8、濺射材質:鐵、鈷、鉺;

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