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    雙爐膛滑軌式PECVD

    發布時間:2020-07-25  瀏覽次數:1475

     

    設備簡介:

    雙溫區的PECVD管式爐系統,組成部分為500W的射頻發生器、可定位的獨立滑動式燒結爐、高精度質量流量混合系統、穩定防反油真空系統。此款PECVD可用于生長納米線或用CVD方法來制作各種薄膜。

     

     

     


     

     

    配置詳情

     

    1. 清洗鍍膜一氣呵成,杜絕二次污染;

    2. 上開啟式結構,方便觀察試樣;

    3. 產品采用全自動控制方式,觸摸屏,數字化顯示;

    4. 可通過爐體滑動來達到快速升溫和快速降溫的效果;

    5. 穩定的射頻電源,均勻的溫度分布,提高成膜質量;

    產品型號

    NBD-PECVD1200-50T2-N

    電氣規格

    AC220V 3KW   射頻功率:300或500瓦 13.56Mhz

    可達溫度

    1200 ℃ (<1小時)

    連續溫度

    1100 ℃ (連續)

    可達加熱速率

    ≤  20 ℃/分鐘

    加熱區長度

    200mm+200mm(兩個加熱溫區分別加熱,分體式設計使溫度梯度可以達到極限)

    爐管尺寸

    Φ50*1800mm

    射頻線圈

     

    采用多節點鍍銀的水冷銅線圈,可匹配不同頻率的射頻電源

    控制系統

     

    1.可預存15條溫度曲線,避免不同的實驗工藝重復設置帶來的麻煩;

    2.實驗過程更加直觀,操作更加便捷;

    3.可另選配無線控制模塊,實現遠程操控;

    4.具有超溫報警、斷偶提示、漏電保護等。

    溫度精度

    +/- 1 ℃

    加熱元件

     

    Mo摻雜的Fe-Cr-Al合金

    密封系統

     

     

    真空度:≤10Pa(機械泵),達到啟輝條件。

    壓力測量與監控

     

    采用數顯真空計可直觀顯示設備的真空度,實驗數據及效果更加準確。

    供氣系統

     

    采用質量流量計控制,與設備一體化,方便控制,出廠前已進行漏氣測試工作

    凈重

    100KG

    設備使用注意事項

    1. 設備爐膛溫度≥300℃時,禁止打開爐膛,避免受到傷害;

    2. 設備使用時,爐管內壓力不得超過0.125MPa(絕對壓力),以防止壓力過大沖開密封法蘭;

    3. 高真空下使用時(10的負3次方Pa),設備使用溫度不得超過800℃。

    服務支持

    1年有限保修,提供終身支持(保修范圍內不包括易耗部件,例如爐管和O形圈等)

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